Призначення та принцип роботи
PLAZER PQ10-MF — установка плазмового гартування прямою плазмовою дугою з магнітним керуванням, призначена для локального поверхневого зміцнення металевих деталей. Використання концентрованої плазмової дуги забезпечує високоточне локальне нагрівання поверхневого шару з наступним інтенсивним самогартуванням за рахунок відведення тепла в масу металу або із застосуванням примусового охолодження.
Залежно від марки матеріалу та режимів обробки установка забезпечує формування загартованого шару твердістю 40–65 HRC глибиною від 0,2 до 4,0 мм.
Установка забезпечує плазмове гартування широкого спектра матеріалів: вуглецевих сталей (до 58–64 HRC), інструментальних та легованих сталей (до 60–66 HRC), а також високоміцних чавунів. Висока концентрація енергії плазмової дуги формує дрібнодисперсну загартовану структуру з підвищеною зносостійкістю — ресурс і довговічність деталей зростають у 2–5 разів.
Додаткова перевага — плазмова дуга на оберненій полярності. Вона дає ефект катодного очищення поверхні від оксидних плівок і забруднень безпосередньо під час гартування. Це покращує тепловий контакт між дугою та металом, підвищує стабільність процесу і забезпечує однорідніший загартований шар.
Основні показники процесу
| Показник | Значення |
|---|---|
| Глибина загартованого шару, мм | 0,5–4,0 |
| Ширина зони гартування, мм | 20–25 |
| Швидкість гартування, мм/с | 5–10 |
Особливості та переваги
- Інтегрована система магнітного керування дугою. Забезпечує високу стабільність плазмової дуги та її кероване розфокусування. Питомий тепловий потік розподіляється рівномірніше, а ширина зони гартування зростає з 10–15 мм (стиснута дуга без магнітного керування) до 20–25 мм.
- Катодне очищення та активація поверхні. Плазмова дуга на оберненій полярності інтенсивно очищає поверхню від оксидних плівок, забруднень та інших включень безпосередньо в процесі гартування. Це покращує тепловий контакт із металом, підвищує стабільність процесу і сприяє формуванню однорідного загартованого шару.
- Підвищена продуктивність і якість обробки. Рівномірніший розподіл теплового потоку усуває надмірну локалізацію тепла: зростає швидкість обробки, мінімізується ризик локальних перегрівів і підплавлення поверхні, якість гартування стає стабільнішою.
- Висока технологічна мобільність. Поверхневе гартування складних і великогабаритних деталей виконується безпосередньо в умовах виробництва, монтажу або ремонту — без демонтажу деталі.
Конструкція установки розрахована на роботу в механізованому, роботизованому та ручному режимі. Для ручного режиму достатньо простого технологічного оснащення, яке утримує плазмотрон у стабільному положенні, витримує потрібну відстань до поверхні деталі та рівномірну швидкість переміщення. Гартувати можна деталі практично будь-якої геометрії та габаритів.
Специфікація основних та допоміжних вузлів
| Одиниці установки | Кількість, шт. |
|---|---|
| Плазмотрон для плазмового гартування з насадкою (фокусуючою системою) для магнітного керування дугою | 1 |
| Джерело живлення з інтегрованим блоком підготовки та контролю робочих газів і блоком рідинного охолодження на мобільному візку-платформі | 1 |
| Блок магнітного керування — генератор та контролер керуючих імпульсів магнітного поля | 1 |
| Комплект шлангового пакета: силові кабелі, газові та охолоджувальні шланги зі швидкороз'ємними муфтами | 1 |
| Комплект газової арматури: балонні редуктори, запобіжні клапани, газові вентилі, сполучні рукави | 1 |
| Комплект ЗІП: запасні частини, витратні елементи плазмотрона (катоди, сопла, ущільнення) та спеціалізований інструмент | 1 |
| Комплект експлуатаційної документації — паспорт та інструкція з експлуатації | 1 |
Допоміжні опції (за узгодженням із замовником):
- універсальний кронштейн-адаптер для закріплення плазмотрона на фланці промислового маніпулятора або на «руці» антропоморфного шестиосьового робота;
- спеціалізоване затискне оснащення — позиціонер або обертач — для гартування деталей типу «вал».
Основні технічні характеристики
| Параметр | Значення |
|---|---|
| Потужність плазмотрона, кВт | 10 |
| Діапазон регулювання струму, А | 50–300 |
| Робоча напруга, В | 10–20 |
| Тиск аргону, МПа | 0,2–0,6 |
| Витрата аргону, л/хв | 8–15 |
| Тип охолодження плазмотрона | водяне |
| Витрата охолоджувальної рідини, л/хв | 3–6 |