System wykonuje aktywację plazmową, polerowanie elektrochemiczne i trawienie powierzchni próbek metalograficznych — przygotowanie do kolejnych etapów analizy mikrostruktury. Obróbka przebiega w warunkach atmosferycznych, bez technologii próżniowych.
W skład systemu wchodzą urządzenie do plazmowego czyszczenia i aktywacji powierzchni PL-ColdPlasmaCleaner-1,5 oraz urządzenie do polerowania i trawienia elektrochemicznego PL-EChemSurfPrep. Stabilność parametrów technologicznych wynosi 5–10 %.
OBRÓBKA PLAZMOWA — PL-ColdPlasmaCleaner-1,5
zasilanie 380 V AC, 50 Hz, 3-fazowe
Rodzaj plazmy
atmosferyczna; gazy robocze Air / Ar / N₂ / O₂
Napięcie robocze plazmy
0,5–2,5 kV
Prąd roboczy plazmy
0,05–2 A
Częstotliwość generatora
10–30 kHz
Ciśnienie gazu plazmotwórczego
0,20–0,28 MPa
OBRÓBKA ELEKTROCHEMICZNA — PL-EChemSurfPrep
zasilanie 220 V AC, 50 Hz
Napięcie wyjściowe
prąd stały 0–100 V
Napięcie robocze
do 15–20 V DC
Dokładność pomiaru
napięcie 0,01 V, prąd 0,001 A
Rodzaj elektrolitu
standardowe elektrolity wodne dla stopów Al, Fe, Ni
Rodzaj sterowania
mikrokontroler lub podstawowy PLC
Chropowatość po obróbce
Ra 0,1–0,4 µm
